Odkryj polecane składniki kosmetyczne dla Skóra tłusta. Każdy z oceną bezpieczeństwa.
DIATOMACEOUS EARTH
Fossilized algae powder — gentle exfoliant
CAPRYLOYL GLYCINE
Amino acid lipid — sebum regulation
NYLON-12
Soft-focus mattifying powder
ALUMINA
Aluminum oxide — polishing agent
SODIUM BICARBONATE
Baking soda — deodorizer and mild abrasive
PHYTOSPHINGOSINE
Ceramide precursor with antibacterial action
SODIUM ACRYLATES COPOLYMER
Superabsorbent polymer
ZINC GLUCONATE
Zinc salt for sebum control
ZINC PCA
Zinc for oil control and acne
GLYCERYL CAPRYLATE
Natural-feel emollient with preservative boost
UNDECYLENIC ACID
Castor-derived antifungal
HAMAMELIS VIRGINIANA LEAF EXTRACT
Witch hazel — pore tightening
PROPOLIS EXTRACT
Bee propolis — antibacterial
KAOLIN
White clay — gentle oil absorption
BENTONITE
Swelling clay — deep cleansing
MONTMORILLONITE
Clay mineral for masks
SILICA
Mattifying mineral powder
MAGNESIUM ALUMINUM SILICATE
Natural clay thickener
PENTYLENE GLYCOL
Pentylenglikol to bezpieczny nawilżacz i rozpuszczalnik szeroko stosowany w produktach do pielęgnacji skóry. Poprawia nawilżenie, przyciągając wilgoć do skóry i wzmacniając penetrację innych aktywnych składników. Jego właściwości przeciwmikrobowe wspierają stabilność produktu.
CALCIUM CARBONATE
Chalk — gentle abrasive and opacifier
AZELAIC ACID
Anti-acne and brightening acid
CHARCOAL POWDER
Activated charcoal for deep cleansing
ALKOL
Rozpuszczalnik i konserwant kosmetyczny poprawiający stabilność produktu. Ułatwia penetrację aktywnych składników w skórę. Bezpieczny w typowych stężeniach kosmetycznych.
ISOPROPYL ALCOHOL
Alkohol izopropylowy to lekki rozpuszczalnik i konserwant przeciwdrobnoustrojowy stosowany w produktach do pielęgnacji skóry. Jego szybkie parowanie tworzy odświeżające uczucie i poprawia stabilność formuły. Bezpieczny w typowych stężeniach kosmetycznych.
Paste the INCI list from your product here. Each ingredient will be looked up in our database and safety-scored.
Uzyskaj fachową poradę dotyczącą pielęgnacji od dermatologów w HekimDoktor.